賽默飛（原FEI）Quattro 進(jìn)口掃描電鏡將成像和分析的全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結(jié)合，使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。
如今，研究型實(shí)驗(yàn)室普遍要求現(xiàn)代的掃描電鏡可以適應(yīng)多種多樣的樣品分析需求，希望在獲得出色的圖像質(zhì)量的同時(shí)盡可能簡(jiǎn)化樣品制備過(guò)程。Quat t r o 的場(chǎng)發(fā)射槍(FEG)確保了優(yōu)異的分辨率，通過(guò)不同的探測(cè)器選項(xiàng)，可以調(diào)節(jié)不同襯度信息，包括定向背散射、STEM 和陰極熒光信息。來(lái)自多個(gè)探測(cè)器和探測(cè)器分區(qū)的圖像可以同步采集和顯示，使得單次掃描即可獲得各種樣品信息，從而減低束敏感樣品的束曝光并實(shí)現(xiàn)真正的動(dòng)態(tài)實(shí)驗(yàn)。
Quattro 的三種真空模式(高真空、低真空和 ESEM™)使得系統(tǒng)極靈活性，可以容納任何 SEM 可用的廣泛的樣品類(lèi)型，包括放氣或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。此外，ESEM™可以在現(xiàn)實(shí)世界的條件下對(duì)樣品進(jìn)行原位研究，例如濕/潮濕、熱或反應(yīng)性的環(huán)境。
Quattro 的分析樣品倉(cāng)可以滿(mǎn)足日益增長(zhǎng)的樣品元素信息及晶體結(jié)構(gòu)分析需求，它同時(shí)支持相對(duì)的雙能譜(EDS)探測(cè)器、共面能譜(EDS)/電子背散射衍射(EBSD)和平行束波譜(WDS)探測(cè)器。無(wú)論什么類(lèi)型的樣品，在高真空下或與 Quattro 支持的實(shí)驗(yàn)條件相結(jié)合，無(wú)論樣品導(dǎo)電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下，均可獲得可靠的分析結(jié)果。
由于多用戶(hù)設(shè)施要求大量操作人員都能獲得所有相關(guān)數(shù)據(jù)，同時(shí)盡可能縮短培訓(xùn)時(shí)間，所以易用性是至關(guān)重要的。Quattro 的硬件由幫助功能(用戶(hù)向?qū)?支持，不僅可以指導(dǎo)操作者，還可以直接與顯微鏡進(jìn)行交互。并且通過(guò)“撤消(Undo)”功能，鼓勵(lì)新手用戶(hù)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，而專(zhuān)家用戶(hù)可以輕松縮短結(jié)果獲取時(shí)間。
賽默飛（原FEI）Quattro 進(jìn)口掃描電鏡主要優(yōu)勢(shì)
在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究：具有環(huán)境真空模式(ESEM)的高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
很大程度縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無(wú)荷電累積
在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
安裝原位冷臺(tái)、珀?duì)柼渑_(tái)和熱臺(tái)，可在-165°C 到 1400°C 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析
分析性能，樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝三個(gè) EDS 探測(cè)器，其中兩個(gè) EDS端口分開(kāi) 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD 分析
靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái)，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
軟件直觀、簡(jiǎn)便易用，并配置用戶(hù)向?qū)Ъ?Undo(撤銷(xiāo))功能，操作步驟更少，分析更快速
全新創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮 RGB 陰極熒光(CL)探測(cè)器、1100°C 高真空熱臺(tái)和 AutoScript(基于 Python 的腳本工具 API)
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