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玉崎科學儀器（深圳）有限公司
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XHEMIS TX-3000半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
| 參考價: | 面議 |
具體成交價以合同協(xié)議為準- XHEMIS TX-3000 產(chǎn)品型號
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訪問次數(shù)：170更新時間：2024-09-29 09:16:07
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產(chǎn)品簡介
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
|---|
半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
TXRF光譜儀
超快速金屬污染測繪
兼容最大 300mm 晶圓
產(chǎn)品介紹
半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
XHEMIS TX-3000 概述
典型元素的檢測限 (LLD)
| 檢測限LLD（E10原子/cm2） | 鋁 | 鐵 | 鎳 | 銅 |
| 發(fā)射光譜 | 14 | 0.06 | 0.06 | 0.09 |
測量時間：1000秒
XHEMIS TX-3000 規(guī)格
| 方法 | 全內(nèi)反射X射線熒光分析（TXRF） | |
|---|---|---|
| 目的 | 快速無損測量痕量元素表面污染（Na - U） 將繪圖速度提高約 3 倍 E9 原子/cm2 的檢測極限 | |
| 技術 | 高靈敏度金屬污染分析 | |
| 主要部件 | 3 探測器配置 高功率 W 對陰極 X 射線源（9 kW 旋轉對陰極） 針對輕元素、過渡元素和重元素優(yōu)化的 3 種激發(fā)能量 XYθ 樣品臺 2 個 FOUP 裝載端口 | |
| 特征 | 全晶圓映射 (SWEEPING-TXRF)、零邊緣排除 (ZEE-TXRF) | |
| 選項 | 背面分析 (BAC-TXRF)、GEM300 軟件、E84/OHT 支持 | |
| 機身尺寸 | 1280（寬）×3750（深）×2040（高） （不含監(jiān)視器和信號塔） | |
| 測量結果 | 定量結果、光譜圖、彩色等高線圖、映射表 | |
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