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電子束蒸鍍設備
  • 電子束蒸鍍設備
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更新時間：2024-11-18 21:00:07

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( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝?。?/p>

簡要描述：電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產(chǎn)品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

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電子束蒸鍍設備介紹

SYSKEY的電子束沉積是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產(chǎn)品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

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電子束蒸鍍設備應用領域腔體

  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。


  • 由304不銹鋼所製成，通過外部焊

    接304不銹鋼管線對腔體進行水冷。

  • 寬大的前開式門，並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和電子束源。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優(yōu)點選件

  • 客製化的基板尺寸，直徑可達12寸晶圓。

  • 單載片或多載片（2" x 32個，4" x 16個，6" x 6個，8" x 4個）。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子

    束源（1/2/4/6坩堝）。

  • 自動鍍膜系統(tǒng)。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻（液態(tài)氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度800°C）等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱

    整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發(fā)源、

    等離子清潔...。




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