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參考價(jià): | ¥ 35100 |
訂貨量: | 1件 |
- PS-462 產(chǎn)品型號(hào)
- SUGIYAMA/杉山電機(jī) 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù):54更新時(shí)間:2025-03-24 17:26:30
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 2萬-5萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
芯片高度檢測(cè)器是基于光學(xué)成像與三維重建技術(shù)實(shí)現(xiàn)芯片厚度、共面性等參數(shù)測(cè)量的精密儀器,其核心功能包括?納米級(jí)厚度測(cè)量?、?封裝共面性檢測(cè)?和?微觀形貌分析.
SUGIYAMA杉山電機(jī) 芯片高度檢測(cè)器 PS-462
SUGIYAMA杉山電機(jī) 芯片高度檢測(cè)器 PS-462
芯片高度檢測(cè)器是基于光學(xué)成像與三維重建技術(shù)實(shí)現(xiàn)芯片厚度、共面性等參數(shù)測(cè)量的精密儀器,其核心功能包括?納米級(jí)厚度測(cè)量?、?封裝共面性檢測(cè)?和?微觀形貌分析.
現(xiàn)代設(shè)備集成多焦點(diǎn)成像系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)0.1μm級(jí)垂直分辨率,支持晶圓、封裝基板等場景的全自動(dòng)在線檢測(cè)?25。典型設(shè)備如日本Daitron的先進(jìn)檢測(cè)系統(tǒng),通過20X光學(xué)放大與AI算法融合,將檢測(cè)效率提升10倍?。
核心技術(shù)特性
1. 超高精度測(cè)量能力
?垂直分辨率?:可達(dá)0.01μm(白光干涉型)或0.1μm(多焦點(diǎn)成像型)?
?重復(fù)精度?:±0.15μm(ISO 17025認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn))?
?檢測(cè)速度?:單芯片測(cè)量耗時(shí)<0.5秒(動(dòng)態(tài)產(chǎn)線適用)?
2. 智能檢測(cè)系統(tǒng)架構(gòu)
技術(shù)模塊功能特性技術(shù)來源
多光譜光源消除金屬表面反光干擾專業(yè)化光源設(shè)計(jì)?
圖像處理引擎實(shí)時(shí)邊緣缺陷識(shí)別(<1μm)AI深度學(xué)習(xí)算法?
動(dòng)態(tài)補(bǔ)償系統(tǒng)自動(dòng)校正工件傾斜(±15°)多焦點(diǎn)成像技術(shù)?
典型應(yīng)用場景
1. 半導(dǎo)體前道制造
?晶圓厚度檢測(cè)?:300mm晶圓全表面掃描(檢測(cè)周期<3分鐘)?
?CMP工藝監(jiān)控?:研磨后表面平整度測(cè)量(Ra值<0.5nm)?
2. 封裝測(cè)試環(huán)節(jié)
檢測(cè)項(xiàng)目技術(shù)方案性能指標(biāo)
BGA錫球共面性激光三角測(cè)量法0.5μm級(jí)精度?
QFN封裝翹曲度多角度投影成像±1μm測(cè)量誤差?
3. 先進(jìn)封裝領(lǐng)域
?3D IC堆疊檢測(cè)?:TSV通孔深度測(cè)量(50-300μm量程)?
?Fan-out封裝?:RDL層厚度均勻性分析(CV值<2%)?
4. 研發(fā)與失效分析
?微觀形貌重建?:20X光學(xué)放大下的3D表面建模?
?缺陷溯源?:結(jié)合FIB/SEM實(shí)現(xiàn)跨尺度關(guān)聯(lián)分析?
五、技術(shù)演進(jìn)方向
?量子傳感融合?:2026年新型設(shè)備將集成量子點(diǎn)傳感器,分辨率突破0.001μm?
?數(shù)字孿生系統(tǒng)?:實(shí)時(shí)映射檢測(cè)數(shù)據(jù)至虛擬產(chǎn)線模型,實(shí)現(xiàn)預(yù)測(cè)性維護(hù)?
?超高速檢測(cè)?:1.5μm線寬CMOS傳感器支持2000fps采集速率?