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VP-Q10微波等離子去膠機PX 2090
SMAP-ⅡF東洋研磨材TOYO 打磨機光澤出專用機PX 3939
納米壓印技術(shù)咨詢PX 1833
CUL-PS350德國SUMET實驗室雙面施膠機PX 3869
plasma等離子去膠機 清洗活化改性設(shè)備PX 2041
KT-S2DQX小型等離子去膠機清洗機PX 4061
超大型勻膠機PX 3277
臺式光刻機PX 4917
HP100-PA充氮型程控烤膠機PX 1350
L2001A3OS勻膠旋涂儀PX 3655
HMS-901HS晶圓烤膠機(光刻)PX 2326
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機PX 2287
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機PX 2960
SYSC-300高精度程控勻膠機 旋.PX 3548
MHY-30268智能程控勻膠機PX 3002
HC160PE可編程勻膠機(旋涂儀)PX 2280
HAD-T0109潤滑脂抗水淋性能測試儀PX 3648
PALET DDB-701日本無掩膜光刻機 研發(fā)及小批量訂單利器PX 3529
低溫等離子處理設(shè)備PX 5247
AS-11SUGIYAMA杉山電機振動傳感器PX 1669
SPIN150i SPIN200iAPT 勻膠旋涂儀PX 4200
EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7275
SC200-SE高精密勻膠機PX 4006
勻膠機PX 1166
ABN-MLM-001無掩膜光刻機PX 4006
TD-A280D優(yōu)質(zhì)勻膠機 旋涂儀 烘膠臺 烤膠機PX 2307
德國海德堡進口科研型3D納米激光直寫光刻機PX 3570
GH/KW-4A北京勻膠機PX 2999
HAD-ZD2數(shù)顯旋渦式振篩機PX 5187
L20001英國Ossila-Spin CoaterPX 4351
無掩膜/激光直寫光刻機PX 1560
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機PX 3380
PR-3離子去膠機PX 2836
C-43型 9英寸國產(chǎn)光刻機PX 6250
Nikon S207D掃描式光刻機PX 1950
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機,多光子光刻PX 4459
LSC4000 半導體晶圓清洗設(shè)備PX 3099
JW-A66寸程控觸屏臺式勻膠機旋涂儀PX 3893
MHY-26174勻膠機PX 3001
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機
POLOS® BEAM Mk2 無掩模光刻機
日本無掩膜光刻機 研發(fā)及小批量訂單利器
勻膠機
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自動勻膠顯影機
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小型等離子去膠機清洗機
上海衡平儀器儀表有限公司
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