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MSD-150D桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)PX 1700
智能勻膠機(jī)PX 4111
JW-A5勻膠機(jī)高精密程控觸屏勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 4111
小型勻膠機(jī)PX 4111
程控觸屏勻膠機(jī)PX 4111
SPIN MASTER 51凱美特程控勻膠機(jī)PX 0
KW-4A凱美特勻膠機(jī)PX 0
KW-4A-CE凱美特抗干擾勻膠機(jī)PX 0
KW-4AD凱美特滴膠機(jī)PX 0
ACA系列科研版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-Y教育版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
MSC-150T桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)PX 1700
MSC-75T鈣鈦礦旋涂?jī)xPX 1700
MSC-75T旋涂?jī)xPX 1700
MSC-75T桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)PX 1700
CG-920光刻工藝設(shè)備PX 1700
CG-MLC6直寫光刻機(jī)PX 1700
MSD-150D桌上型成像儀PX 1700
MSD-150D桌上型顯影機(jī)PX 1700
MSC-200T-D自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)PX 1700
MSC系列勻膠機(jī)PX 1700
MAS4-BE曝光系統(tǒng)一體機(jī)PX 1700
CG-920半自動(dòng)光刻機(jī)PX 1700
MSC-200T-D針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)PX 1700
MSC系列桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)PX 1700
CG-MLC6實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)PX 1700
高性能硅片 半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用電子設(shè)備PX 0
無(wú)掩模光刻機(jī) 高階灰度光刻能力設(shè)備PX 0
無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-SSpeed系列無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
托托科技自主研發(fā)無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO高深寬比 無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
硅片 半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用電子設(shè)備PX 0
KW-4A-120S凱美特勻膠機(jī)-120SPX 0
Spin300X德國(guó)進(jìn)口 POLOS勻膠機(jī) SPS旋涂?jī)xSPINPX 3628
HAD-R2100A自動(dòng)苯結(jié)晶點(diǎn)測(cè)定儀PX 3836
JW-A5桌面式小型勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 4111
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
直寫光刻機(jī)
直寫光刻機(jī)/無(wú)掩膜光刻機(jī)
可控溫型 智能程控 8寸觸摸屏 勻膠機(jī) 旋涂?jī)x Spin Coater KW-4E
加速度可調(diào) 智能程控 PTFE 勻膠機(jī) 旋涂?jī)x Spin Coater KW-4L型
密朗德 數(shù)字型勻膠機(jī) 微電子KW-4A旋涂?jī)x高精度甩膠鍍膜旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)
光刻工藝設(shè)備
桌上型成像儀
微波等離子去膠機(jī)
等離子表面處理機(jī)廠家
桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)
程控勻膠機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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