全自動(dòng)熱脫附儀 參考價(jià)：面議
urboMatrix全自動(dòng)熱脫附儀介紹：作為熱脫附（TD）技術(shù)的行業(yè)，珀金埃爾默除了可提供五種不同的配置儀器，還可以提供在線VOC分析的全套設(shè)備，還可以在采集前...
全自動(dòng)頂空進(jìn)樣器 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)頂空進(jìn)樣器介紹：TurboMatrix頂空和帶捕集阱頂空自動(dòng)進(jìn)樣器TurboMatrix頂空和捕集阱頂空能夠提供的精度、靈敏度和分析效率。是尋求快速樣品處...
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀 參考價(jià)：面議
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀介紹：珀金埃爾默推出的GCMS 2400™ System，為各種類型和規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室提供了兼具優(yōu)異靈敏度和穩(wěn)定性的先 進(jìn)工具。
蔡司共聚焦顯微鏡 參考價(jià)：面議
蔡司共聚焦顯微鏡的多功能 Smartproof 5 快速轉(zhuǎn)盤共聚焦顯微鏡是用于表面分析的集成系統(tǒng)：快速，精確，可重復(fù)。可用于各種工業(yè)應(yīng)用——比如粗糙度分析和地形...
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。
深硅刻蝕 參考價(jià)：面議
進(jìn)口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或...
刻蝕系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
刻蝕系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空...
反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
英國光柵刻蝕 參考價(jià)：面議
英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效...
ZEISS掃描顯微鏡 參考價(jià)：面議
ZEISS掃描顯微鏡系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起， 同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學(xué)， 材料科學(xué)， 或例行...
雙束電鏡 參考價(jià)：面議
雙束電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索?，F(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動(dòng)下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品進(jìn)行...
掃描電鏡 參考價(jià)：面議
掃描電鏡操作直觀的模塊化掃描電子顯微鏡(SEM)平臺(tái)適用于日常檢測與研究應(yīng)用，高可用性：EVO配備的兩種用戶界面(SmartSEMTouch和SmartSEM)...
雙束掃描電鏡 參考價(jià)：面議
雙束掃描電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索?，F(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動(dòng)下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品...
3D掃描電鏡 參考價(jià)：面議
蔡司3D掃描電鏡是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)。
日本傾斜角刻蝕 參考價(jià)：面議
日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載，從...
SENTECH二維材料刻蝕 參考價(jià)：面議
SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。
德國電子束曝光 參考價(jià)：面議
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過程只需要編輯曝光的相...
國產(chǎn)電子束光刻 參考價(jià)：面議
國產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過程只需要編輯曝光的相...
進(jìn)口深硅刻蝕 參考價(jià)：面議
進(jìn)口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng)低成本桌面式壽命測量系統(tǒng)，用于手動(dòng)操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品?？蛇x的手動(dòng)操作Z軸用于厚度多達(dá)156毫米的樣品。標(biāo)準(zhǔn)軟件可輸出可視化的...
靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng)MDPmap設(shè)計(jì)用于離線生產(chǎn)控制或研發(fā)、測量少子壽命、光電導(dǎo)率、電阻率和缺陷信息等參數(shù)的小型臺(tái)式無觸點(diǎn)電特性測量儀器，在穩(wěn)態(tài)或短脈沖激勵(lì)下(μ...
激光掃描系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
激光掃描系統(tǒng)該儀器被設(shè)計(jì)用于工藝和材料的質(zhì)量監(jiān)控，例如單晶或多晶硅。多晶硅磚切割標(biāo)準(zhǔn)的自動(dòng)輸出。能夠根據(jù)爐子的輸出質(zhì)量進(jìn)行單獨(dú)的爐子監(jiān)控進(jìn)行優(yōu)化和決定投資。MD...
在線壽命和電阻率掃描儀 參考價(jià)：面議
在線壽命和電阻率掃描儀電池生產(chǎn)線的進(jìn)料質(zhì)量調(diào)查是常見的應(yīng)用案例，以及在鈍化和擴(kuò)散之后的工藝質(zhì)量檢查，在許多其他的專業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域也有很大的可能性。只需要集成以太網(wǎng)連...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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