Centrotherm 高溫退火爐系統(tǒng)-Activator 150

一、產(chǎn)品簡介

Centrotherm Activator 150 高溫爐設計用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm*工藝爐管和加熱系統(tǒng)設，允許工藝溫度達到 1850 ℃。

此外，Activator 150 系列的產(chǎn)品可以實現(xiàn)生長石墨烯生長。通過碳化硅升華生長石墨層可以獲得高性能器件。

Centrotherm 新一代SiC工藝爐管的研發(fā)用以滿足新興的150 毫米 SiC工藝。

Centrotherm Activator 150-5 是為研發(fā)工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50專為大批量生產(chǎn)設計。

廣泛的工藝范圍實現(xiàn)了對自定義化程序的優(yōu)化, 例如溫度, 氣路系統(tǒng)和壓力。

二、典型應用

SiC器件高溫退火 （注入后）

GaN器件退火

大面積石墨烯生長

SiC表面制備

三、產(chǎn)品特性

性能和優(yōu)勢

高活化

小表面粗糙度

最大溫度可達 1850 ℃