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當(dāng)前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>化合物半導(dǎo)體-工藝設(shè)備>> Centrotherm RAPID 150Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號Centrotherm RAPID 150
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-09-25 16:15:34瀏覽次數(shù):893次
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Centrotherm 快速熱工藝設(shè)備-RTP 150
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150
德國Centrotherm公司是國際主流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火設(shè)備,主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所需的多種工藝要求。
Centrotherm測溫系統(tǒng)適用于從室溫至高溫的廣泛區(qū)間。Centrotherm優(yōu)化的多區(qū)溫控系統(tǒng)結(jié)合可以獨(dú)立控制的加熱燈,提供了出色的控溫精度和控溫重復(fù)性。
此款設(shè)備配置手動裝載系統(tǒng),適用于研發(fā)以及小型的量產(chǎn)。
成熟的真空操作和氣體管理系統(tǒng)為多種應(yīng)用提供了可控的氣體環(huán)境。出色的性能和高度的靈活性,結(jié)合小的占地面積,低的客戶擁有成本,使c.RAPID 150成為一款最佳的手動RTP設(shè)備。
退火:一般退火、接觸層(Contact)退火、源/漏退火、勢壘金屬退火
硅化
氧化
摻雜活化
可在常壓或者真空(控壓)下工作
高度靈活性:適用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盤
升溫速率約150 K/s
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