LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer
普索貿易
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LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer
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SAW 器件的基本原理是從電信號中產(chǎn)生彈性表面波并進行再轉換?;宀牧鲜菈弘娋w,如石英 (SiO2)、鉭酸鋰 (LiTaO3) 或鈮酸鋰 (LiNbO3)。這是單晶材料,在生長過程后切割成晶片的確定方向。NQW 為 SAW 制造和研發(fā)中心生產(chǎn)了這種晶片
LT /LN 材料
LT 鉭酸鋰 (LiTaO3)、LN 鈮酸鋰 (LiNbO3)
LT:典型切割 X112°Y/36°Y/42°Y/48°Y/ Z-cut
LN:典型切削 128°Y/64°Y /41°Y /Y / Z-cut
SAW/光學級,LN 黑色(無熱電效應)
MgO摻雜LN晶圓
晶圓應用
SAW器件特別用于手機中作為介質濾波器、帶通濾波器、射頻濾波器和中頻濾波器
寬帶濾波器包括雷達技術
家用電子產(chǎn)品遙控器
尺寸和厚度
圓形晶圓 4" 至 8"
方形晶圓 10x10mm 至 100x100mm
厚度 250µm、350µm、500µm、1000µm
半扁平,邊緣 C 形
TTV <10µm(標準)到 <5µm(高級?)
弓形 +/-40µm , 翹曲 <40µm
表面和質量
表面處理:單/雙面拋光、研磨、研磨
LTV≤0.4um EE 3mm, 5x5mm區(qū)域內,適用于PLTV > 98%工作區(qū)域
拋光 Ra<1nm(標準)高達 <0.5nm(CMP)
研磨 Ra 0.1µm 至 0.5µm
玻璃晶圓
玻璃晶圓是現(xiàn)代微系統(tǒng)技術的基礎。它特別用于半導體行業(yè)。一個常見的應用是薄硅膜片或傳感器的機械穩(wěn)定性,以及用于 MEMS 的蝕刻結構掩模。
玻璃晶圓基板是液晶面板和OLED基板的基本組成部分,晶圓質量影響良率。來自主要制造商的所有等級和規(guī)格的 NQW 材料。NQW 提供的所有玻璃材料均經(jīng)過制造商認證。
玻璃材質
肖特:Borofloatt33、MEMPax、AF32、AF37、B270、N-BK7、光學玻璃
康寧:ULE 玻璃、Eagle XG、光學玻璃
其他定制
晶圓應用
這種材料廣泛應用于半導體、醫(yī)學、通信、激光、紅外、電子、測量儀器、軍事和航空航天。
尺寸和厚度
圓片 5mm 至 400mm
方形晶圓 4x4mm 至 1000x500mm
厚度 100µm 至 10000µm
TTV <10µm(標準)高達 <5µm(高級)
弓形 +/-40µm , 翹曲 <40µm
半平、缺口或無截止
邊緣:C 形,斜面,切邊
表面和質量
表面處理:單/雙面拋光、研磨、研磨
S/D-質量 60/40(標準)高達 10/5(高級),
拋光 Ra<1nm(標準)高達 <0.5nm(CMP)
研磨 Ra 0,1µm 至 2,0µm
不同顏色的高對比度激光標記