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更新時(shí)間：2024-09-23 20:17:10瀏覽次數(shù)：475評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
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Rudolph MP300 薄膜厚度測(cè)試儀
是一種高性能的晶圓測(cè)試和計(jì)量設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。以下是其詳細(xì)規(guī)格參數(shù)：
高精度晶片測(cè)試和計(jì)量設(shè)備
設(shè)計(jì)用于生產(chǎn)或鑒定過程中
提供用戶友好的設(shè)置和控制
自動(dòng)晶片處理和探測(cè)技術(shù)
可測(cè)量各種參數(shù)
配有大的穩(wěn)定壓板和自動(dòng)測(cè)量檢索
非接觸式光學(xué)測(cè)距、表面地形、電氣探測(cè)和缺陷檢測(cè)
精度高達(dá)0.7nm
模塊化設(shè)計(jì)，支持多種測(cè)量任務(wù)
半導(dǎo)體制造業(yè)中的晶圓特性測(cè)量、測(cè)試和記錄
R&D實(shí)驗(yàn)室等高duan制造工廠
兩個(gè)加載端口、兩個(gè)工作站和兩個(gè)prober基礎(chǔ)
支持高精度計(jì)量、sem成像、afm、物理測(cè)試和化學(xué)測(cè)試
1. **類型**：晶圓測(cè)試和計(jì)量設(shè)備。
2. **用途**：用于測(cè)量、測(cè)試和記錄半導(dǎo)體晶片的各種特性，包括非接觸式光學(xué)測(cè)距、表面地形、電氣探測(cè)和缺陷檢測(cè)。
3. **精度**：具有高精度計(jì)量能力，能夠達(dá)到0.7nm至1.5nm的測(cè)量精度。
4. **功能**：
- 高精度計(jì)量（如Cu薄膜厚度測(cè)量）。
- 多種軟件元素便于分析和結(jié)果處理。
- 自動(dòng)晶片處理和探測(cè)技術(shù)以確保最佳測(cè)試結(jié)果。
- 模塊化設(shè)計(jì)，允許用戶根據(jù)需要選擇不同的模塊。
5. **配置**：
- 設(shè)備配置包括兩個(gè)加載端口、兩個(gè)工作站和兩個(gè)prober基礎(chǔ)。
- 可以在單個(gè)晶片上快速運(yùn)行多個(gè)測(cè)試。
6. **適用范圍**：適用于生產(chǎn)工廠、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室等。
此外，Rudolph MP300 還具備以下特點(diǎn)：
- 用戶友好的設(shè)置和控制界面。
- 配備大的穩(wěn)定壓板和自動(dòng)測(cè)量檢索功能。
- 使用先進(jìn)的工業(yè)傳感器、探測(cè)器和算法來保證測(cè)量的準(zhǔn)確性和可靠性。
這些特性使得 Rudolph MP300 成為一個(gè)強(qiáng)大且多功能的工具，能夠滿足半導(dǎo)體制造業(yè)中對(duì)高精度和多功能性的需求。
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