Pluto-MD等離子去膠機

產(chǎn)品介紹 ：

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精細控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

產(chǎn)品性能：

經(jīng)過真空檢漏316不銹鋼腔體， 具備更好密封性能和保壓能力

5L腔體，雙層電極，離子密度可控

13.5EMHz射頻等離子源，兼容物理反應和化學反應，覆蓋全部樣品種類

創(chuàng)新可調(diào)電極，可以調(diào)整有效處理面積中等離子體的能量密度

標配兩路氣體，適應更多用戶需求。

Pluto-MD等離子去膠機采用電容觸摸屏，全數(shù)字控制。

全手動控制和預設(shè)工藝參數(shù)自動運行

Pluto-MD等離子去膠機 產(chǎn)品參數(shù)：