熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...
實驗室真空鍍膜設(shè)備 參考價：面議
實驗室真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積...
有機-金屬真空熱蒸鍍儀 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...
實驗室鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
真空鍍膜設(shè)備 參考價：面議
鍍膜設(shè)備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...
蒸發(fā)鍍膜機 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...
磁控濺射鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
多功能鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
科研鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
小型鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
小型真空鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
鍍膜設(shè)備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...
多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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