1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：
設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
設(shè)備配備4～6組蒸發(fā)源，兼容有機(jī)蒸發(fā)與無機(jī)蒸發(fā)，多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強(qiáng)大，性能穩(wěn)定；
適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等；
適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機(jī)融合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機(jī)太陽能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發(fā)納米級單層、多層及復(fù)合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、C60、BCP......
5.應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
6.小型實(shí)驗(yàn)設(shè)備的理想選擇/性能滿足各種實(shí)驗(yàn)需求/專業(yè)的服務(wù)確保用戶省心省力
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