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NLD-570日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備研發(fā)
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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備研發(fā)
產(chǎn)品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備研發(fā)
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備研發(fā)
NLD干法刻蝕設(shè)備研發(fā)NLD-570
研發(fā)用NLD干法蝕刻 NLD-570是ULVAC原創(chuàng)開發(fā)的使用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干法蝕刻裝置。
特征
與ICP法相比，NLD具有更低的壓力、更高的密度和更低的電子溫度等離子，因此適合加工石英、玻璃、晶體、LN、LT基板等。
耐熱玻璃和硼硅酸鹽玻璃等雜質(zhì)較多的玻璃可以蝕刻出優(yōu)異的形狀和表面光滑度。
厚膜抗蝕劑還可用作石英和玻璃深蝕刻（100μm以上）的掩模。
可進(jìn)行高速蝕刻（石英>1μm/min、Pyrex>0.8μm/min）
可以添加盒室。
目的
光學(xué)器件（衍射光柵、調(diào)制器、光波導(dǎo)、光開關(guān)等）、凹凸微透鏡、光子晶體、流體路徑（μ-TAS）創(chuàng)建等。
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