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NLD-5700日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體光電干法刻蝕設(shè)備
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- NLD-5700 產(chǎn)品型號(hào)
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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體光電干法刻蝕設(shè)備
產(chǎn)品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體光電干法刻蝕設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體光電干法刻蝕設(shè)備
用于光電器件和MEMS的
干法刻蝕設(shè)備NLD-5700
用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統(tǒng)是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規(guī)模生產(chǎn)的干法刻蝕系統(tǒng)。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設(shè)備，由ULVAC原創(chuàng)開發(fā)。）
特征
通過在潔凈室內(nèi)工作，潔凈室可以擴(kuò)展到兩個(gè)房間（NLD、磁場(chǎng)ICP、CCP和灰化室）。
NLD是一種可以在空間和時(shí)間上控制的等離子體，因此干洗很容易。
實(shí)現(xiàn)輕松的腔室維護(hù)。
我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。
半導(dǎo)體技術(shù)研究院提供完善的工藝支持系統(tǒng)。
用途
光學(xué)器件（衍射光柵、調(diào)制器、光波導(dǎo)、光開關(guān)等）、不均勻微透鏡。
流體路徑創(chuàng)建 (μ-TAS) 和光子晶體。
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