MKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源提供半導(dǎo)體晶圓加工所需的高性能和清潔的反應(yīng)氣體源。創(chuàng)新的 R*evolution 是專門為“onwafer"應(yīng)用設(shè)計(jì)的遠(yuǎn)程等離子體源新系列中的產(chǎn)品，它結(jié)合了 MKS 經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的低場(chǎng)環(huán)形等離子體技術(shù)和強(qiáng)大的等離子體施加器設(shè)計(jì)，可產(chǎn)生超潔凈的原子中性粒子或部首。

原子自由基在許多工藝中都是十分重要的，例如光刻膠去除、晶圓預(yù)清洗以及薄膜氮化和氧化。自由基通常是通過產(chǎn)生等離子體而產(chǎn)生的。然而，相關(guān)的帶電粒子有時(shí)是不受歡迎的。為了避免這些不利影響，在外部產(chǎn)生等離子體并將自由基有效地輸送到處理室。

MKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源 反應(yīng)氣體發(fā)生器將石英真空室、射頻電源和所有必要的控制裝置集成到一個(gè)緊湊、獨(dú)立的單元中，以便輕松直接安裝在工具的處理室上。其結(jié)果是獲得極其清潔的原子自由基源，從而在晶圓上產(chǎn)生所需的反應(yīng)，同時(shí)大大降低了復(fù)雜性。R*evolution 遠(yuǎn)程等離子體源可提供高達(dá) 6 kW 的等離子體功率，為工藝提供高自由基流量（高達(dá) 5 slm），從而使剝離或蝕刻速率比傳統(tǒng)微波系統(tǒng)快兩倍。由于其效率高且成本較低，R*evolution 遠(yuǎn)程等離子體源可顯著降低總體投資和工具運(yùn)營(yíng)成本。此外，其較小的尺寸和簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)有利于用戶輕松安裝、操作和維護(hù)。